Ion implantation, sputtering and their applications /

Ion implantation, sputtering and their applications /

40

Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Townsend, P. D. (Peter David), Kelly, J. C. (John Clive), Hartley, N. E. W.
Format:
Wydane: London : Academic Pr., 1976
Hasła przedmiotowe:
Ion implantation
Sputtering (Physics)

Podobne zapisy