Пропуск в контексте
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Язык
Все поля
Заглавие
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Метка
Найти
Расширенный поиск
The versatile technique of Rf...
Цитировать
Отправить по sms
Отправить на Email
Печать
Запись для экспорта
Экспорт в RefWorks
Экспорт в EndNoteWeb
Экспорт в EndNote
Постоянная ссылка
The versatile technique of Rf plasma etching : mechanistic considerations for selective etching /
PSZJBL
Библиографические подробности
Главный автор:
427692 Jacob, Adir
Формат:
Предметы:
Etching reagents
Фонды
Описание
Схожие документы
Marc-запись
Схожие документы
The versatile technique of RF plasma etching : kinetics of etchant formation /
по: 427692 Jacob, Adir
The versatile technique of RF plasma etching : the etch profile /
по: 427692 Jacob, Adir
Etching /
по: 375081 Edmondson, Leonard
Опубликовано: (1973)
Studies on etching and polymer deposition in halocarbon plasmas
по: Astell-Burt, P, и др.
Опубликовано: (1987)
Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching
по: Toogood, M, и др.
Опубликовано: (1991)