Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
Design of MEPCVD system for th...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
Design of MEPCVD system for the preparation of thin film amorphous silicon /
16
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
177855 Putut Marwoto
,
Abdallah Belal Adam
,
Samsudi Sakrani
,
Bakar Ismail
,
Yusof Wahab
,
Universiti Teknologi Malaysia. Fakulti Sains. Jabatan Fizik
,
Regional Seminar on Solid State Science (15th : 1998 : Selangor)
Định dạng:
Những chủ đề:
Silicon
Thin films
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Đang giữ
Miêu tả
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
The construction of plasma reactor chamber and radio frequency generator in the RF PECVD system /
Bằng: Putut Marwoto, et al.
Được phát hành: (1999)
The optical characterization of hydrogenated amorphous carbon thin films deposited by a DC-PECVD method /
Bằng: Suriani Abu Bakar, et al.
Được phát hành: (2003)
Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes/
Bằng: 293806 Luft, Werner, et al.
Được phát hành: (1993)
Plasma techniques for film deposition /
Bằng: Konuma, Mitsuharu, 1950-
Được phát hành: (2005)
Carbon Nanotube Growth Using Ni Catalyst in Different Layouts
Bằng: Nguyen, H. Q., et al.
Được phát hành: (2004)