تخطي إلى المحتوى
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
اللغة
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
Design of MEPCVD system for th...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
أرسل هذا بالبريد الإلكتروني
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
رابط دائم
Design of MEPCVD system for the preparation of thin film amorphous silicon /
16
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:
177855 Putut Marwoto
,
Abdallah Belal Adam
,
Samsudi Sakrani
,
Bakar Ismail
,
Yusof Wahab
,
Universiti Teknologi Malaysia. Fakulti Sains. Jabatan Fizik
,
Regional Seminar on Solid State Science (15th : 1998 : Selangor)
التنسيق:
الموضوعات:
Silicon
Thin films
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
المقتنيات
الوصف
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
مواد مشابهة
The construction of plasma reactor chamber and radio frequency generator in the RF PECVD system /
حسب: Putut Marwoto, وآخرون
منشور في: (1999)
The optical characterization of hydrogenated amorphous carbon thin films deposited by a DC-PECVD method /
حسب: Suriani Abu Bakar, وآخرون
منشور في: (2003)
Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes/
حسب: 293806 Luft, Werner, وآخرون
منشور في: (1993)
Plasma techniques for film deposition /
حسب: Konuma, Mitsuharu, 1950-
منشور في: (2005)
Carbon Nanotube Growth Using Ni Catalyst in Different Layouts
حسب: Nguyen, H. Q., وآخرون
منشور في: (2004)