Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /

Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /

40

Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:	402041 Yamamura, Y., Kazuho Sakaoka, Hiro Tawara
Định dạng:
Được phát hành:	Nagoya, Japan : NIFS, 1995
Những chủ đề:	Ion implantation Sputtering (Physics)

Những quyển sách tương tự

Data compilation of angular distributions of sputtered atoms/
Bằng: 266714 Yasunori Yamamura, et al.
Được phát hành: (1990)

Ion implantation, sputtering and their applications /
Bằng: Townsend, P. D. (Peter David), et al.
Được phát hành: (1976)

Energy dependence of ion-induced sputtering yields from monoatomic solids at normal incidence/
Bằng: 266714 Yasunori Yamamura
Được phát hành: (1995)

Dynamical simulation for sputtering of B4C /
Bằng: T. Kenmotsu
Được phát hành: (1998)

Cu(Pd)-N-C catalysts with ORR activity were prepared through magnetron sputtering and ion implantation
Bằng: Tengfei Li, et al.
Được phát hành: (2025-01-01)

Nanofabrication by Ion-Beam Sputtering : Fundamentals and Applications /
Bằng: Som, Tapobrata, editor 541578, et al.
Được phát hành: (2013)

Sputtering yield formula for B4C irradiated with monoenergetic ions at normal incidence /
Bằng: T. Ono
Được phát hành: (1996)

Ion beam modification of insulators/
Bằng: Mazzoldi, Paolo, et al.
Được phát hành: (1987)

Sputtering by particle bombardment : experiments and computer calculations from threshold to MeV energies /
Bằng: 466751 Behrisch, Rainer, et al.
Được phát hành: (2007)

Sputtering by particle bombardment III : Characteristics of sputtered particles, technical applications /
Bằng: Wittmaack, K.
Được phát hành: (1991)

Sputtering yield calculations using an interatomic potential with the shell effect and new local model /
Bằng: Zhijie Li
Được phát hành: (1998)

Calculation of sputtering yield with obliquely incident light-ions (H+ , D+ , T+ ,He+) and its representation by an extended semi-empirical formula /
Bằng: Ono, T., author, et al.
Được phát hành: (2012)

SYSTEM OF STABILIZATION OF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING PROCESS
Bằng: A. P. Burmakou, et al.
Được phát hành: (2018-06-01)

Electron impact ionization data for atoms and ions - up-dated in 1998- /
Bằng: 266748 Hiro Tawara, et al.
Được phát hành: (1999)

Electrical properties of copper nitride thin film prepared by reactive DC sputtering /
Bằng: Wan Noor Ezianti Wan Mohd. Noral Azman, 1986-, et al.
Được phát hành: (2013)

INFLUENCE OF PLASMA NITRIDING ON SURFACE ROUGHNESS OF STEELS
Bằng: M. S. Ahmed, et al.
Được phát hành: (2019-06-01)

Surface morphology and optical properties of copper nitride thin film synthesized by DC sputtering /
Bằng: Nurul Shahida Ma'ajih, 1987- author, et al.
Được phát hành: (2014)

Electrical properties of copper nitride thin film prepared by reactive DC sputtering [electronic resource] /
Bằng: Wan Noor Ezianti Wan Mohd. Noral Azman, 1986-
Được phát hành: (2013)

Ion implantation and synthesis of materials /
Bằng: Nastasi, Michael Anthony, 1950-, et al.
Được phát hành: (2006)

Simulation of ion implantation in Germanium using transport of ion in matter (TRIM) software /
Bằng: Umar Abdul Aziz Abdullah Shukri, 1992-, et al.
Được phát hành: (2016)

Simulation of ion implantation in Germanium using transport of ion in matter (TRIM) software [electronic resource] /
Bằng: Umar Abdul Aziz Abdullah Shukri, 1992-, et al.
Được phát hành: (2016)

Pulsed ion implantation of nitrogen in pure titanium /
Bằng: Feugeas, J. N.

Ion beams : with applications to ion implantation/
Bằng: 323386 Wilson, Robert G., et al.
Được phát hành: (1973)

Site characterization and aggregation of implanted atoms in materials/
Bằng: Perez, A., et al.
Được phát hành: (1978)

Surface morphology and optical properties of copper nitride thin film synthesized by DC sputtering [electronic resource] /
Bằng: Nurul Shahida Ma'ajih, 1987- author, et al.
Được phát hành: (2014)

Plasma Systems in Thin Film Technology
Bằng: A. P. Dostanko, et al.
Được phát hành: (2024-04-01)

Selection of technologies for metal film application using physical deposition techniques
Bằng: S. P. Glushko
Được phát hành: (2020-10-01)

Sputtering materials for VLSI and thin film devices /
Bằng: Sarkar, Jaydeep
Được phát hành: (2014)

Pulsed and pulsed bias sputtering : principles and applications /
Bằng: 196569 Barnat, Edward V., et al.
Được phát hành: (2003)

Investigation of the process of reactive ion-beam sputtering of gallium arsenide using optical emission spectroscopy
Bằng: E. V. Тelesh
Được phát hành: (2021-02-01)

IN-LINE SPUTTERING COATER OF HYDROPHOBIC ANTIREFLECTION COATING FOR SENSOR DISPLAYS
Bằng: A. S. Myslivets, et al.
Được phát hành: (2019-12-01)

Advances in Flexible Thermoelectric Materials and Devices Fabricated by Magnetron Sputtering
Bằng: Boxuan Hu, et al.
Được phát hành: (2025-03-01)

Atomic-level insight into process and mechanism of ion beam machining on aluminum optical surface
Bằng: Du, Chunyang, et al.
Được phát hành: (2024)

Ion implantation of semiconductors/
Bằng: 299531 Carter, G. (George), 1934-, et al.
Được phát hành: (f)

Ion implantation/
Bằng: 209148 Ryssel, Heiner, et al.
Được phát hành: (1986)

Simulation of ion implantation in VLSI fabrication process /
Bằng: 441271 Mah, Cheng Chai
Được phát hành: (2001)

Ion implantation in semiconductors: science and technology/
Bằng: International Conference on Ion Implantation in Semiconductors and other Materials (4th : 1974 : Osaka), et al.
Được phát hành: (1975)

Ion implantation in semiconductors and other materials/
Bằng: International Symposium on Ion Implantation in Semiconductors and other Materials (3rd : 1972 : Yorktown Heights, New York), et al.
Được phát hành: (1973)

Ion implantation technology 2008 : 17th international conference on ion implantation technology iit 2008 /
Bằng: International conference on Ion Implantation Technology IIT (17th : 8-13 June 2008 ; Monterey California), et al.
Được phát hành: (2008)

Ion implantation in semiconductors : silicon and germanium/
Bằng: Mayer, James W., 1930-, et al.
Được phát hành: (1970)