Přeskočit na obsah
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jazyk
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
Dynamical simulation for sputt...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Trvalý odkaz
Dynamical simulation for sputtering of B4C /
40
Podrobná bibliografie
Hlavní autor:
T. Kenmotsu
Médium:
Vydáno:
Nagoya, Japan : NIFS,
1998
Témata:
Ion bombardment
Sputtering (Physics)
Jednotky
Popis
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Podobné jednotky
Nanofabrication by Ion-Beam Sputtering : Fundamentals and Applications /
Autor: Som, Tapobrata, editor 541578, a další
Vydáno: (2013)
Ion implantation, sputtering and their applications /
Autor: Townsend, P. D. (Peter David), a další
Vydáno: (1976)
Ion beam modification of insulators/
Autor: Mazzoldi, Paolo, a další
Vydáno: (1987)
Introduction to Ion beam biotechnology /
Autor: 210978 Yu, Zengliang
Vydáno: (2006)
Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /
Autor: 402041 Yamamura, Y., a další
Vydáno: (1995)