Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
Dynamical simulation for sputt...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
Dynamical simulation for sputtering of B4C /
40
מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי:
T. Kenmotsu
פורמט:
יצא לאור:
Nagoya, Japan : NIFS,
1998
נושאים:
Ion bombardment
Sputtering (Physics)
מלאי ספרים
תיאור
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Nanofabrication by Ion-Beam Sputtering : Fundamentals and Applications /
מאת: Som, Tapobrata, editor 541578, et al.
יצא לאור: (2013)
Ion implantation, sputtering and their applications /
מאת: Townsend, P. D. (Peter David), et al.
יצא לאור: (1976)
Ion beam modification of insulators/
מאת: Mazzoldi, Paolo, et al.
יצא לאור: (1987)
Introduction to Ion beam biotechnology /
מאת: 210978 Yu, Zengliang
יצא לאור: (2006)
Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /
מאת: 402041 Yamamura, Y., et al.
יצא לאור: (1995)