Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jezik
Vsa polja
Naslov
Avtor
Tema
Signatura
ISBN/ISSN
Oznaka
Išči
Napredno
Dynamical simulation for sputt...
Citiraj
Pošljite SMS
Pošljite email
Natisni
Izvozi zadetek
Izvozi v RefWorks
Izvozi v EndNoteWeb
Izvozi v EndNote
Permanent link
Dynamical simulation for sputtering of B4C /
40
Bibliografske podrobnosti
Glavni avtor:
T. Kenmotsu
Format:
Izdano:
Nagoya, Japan : NIFS,
1998
Teme:
Ion bombardment
Sputtering (Physics)
Zaloga
Opis
Podobne knjige/članki
Knjižničarski pogled
Podobne knjige/članki
Nanofabrication by Ion-Beam Sputtering : Fundamentals and Applications /
od: Som, Tapobrata, editor 541578, et al.
Izdano: (2013)
Ion implantation, sputtering and their applications /
od: Townsend, P. D. (Peter David), et al.
Izdano: (1976)
Ion beam modification of insulators/
od: Mazzoldi, Paolo, et al.
Izdano: (1987)
Introduction to Ion beam biotechnology /
od: 210978 Yu, Zengliang
Izdano: (2006)
Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /
od: 402041 Yamamura, Y., et al.
Izdano: (1995)