Перейти до змісту
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Мова
Всі поля
Назва
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Тег
Знайти
Розширений
Dynamical simulation for sputt...
Цитувати
Відправити по sms
Відправити е-поштою
Друк
Експортувати запис
Екпортувати в RefWorks
Екпортувати в EndNoteWeb
Екпортувати в EndNote
Постійне посилання
Dynamical simulation for sputtering of B4C /
40
Бібліографічні деталі
Автор:
T. Kenmotsu
Формат:
Опубліковано:
Nagoya, Japan : NIFS,
1998
Предмети:
Ion bombardment
Sputtering (Physics)
Примірники
Опис
Схожі ресурси
Службовий вигляд
Схожі ресурси
Nanofabrication by Ion-Beam Sputtering : Fundamentals and Applications /
за авторством: Som, Tapobrata, editor 541578, та інші
Опубліковано: (2013)
Ion implantation, sputtering and their applications /
за авторством: Townsend, P. D. (Peter David), та інші
Опубліковано: (1976)
Ion beam modification of insulators/
за авторством: Mazzoldi, Paolo, та інші
Опубліковано: (1987)
Introduction to Ion beam biotechnology /
за авторством: 210978 Yu, Zengliang
Опубліковано: (2006)
Computer simulation and data compilation of sputtering yield by hydrogen isotopes (1H+, 2D+, 3T+) and helium (4He+) ion impact from monatomic solids at normal incidence /
за авторством: 402041 Yamamura, Y., та інші
Опубліковано: (1995)