Low‐dose liquid cell electron microscopy investigation of the complex etching mechanism of rod‐shaped silica colloids

Low‐dose liquid cell electron microscopy investigation of the complex etching mechanism of rod‐shaped silica colloids

Abstract Understanding the chemical structure of rod‐shaped silica colloidal particles is attainable by investigating their etching mechanism in solution. Liquid Cell (Scanning) Transmission Electron Microscopy (LC‐(S)TEM) is a promising technique through which the etching of these particles can be...

תיאור מלא

מידע ביבליוגרפי
Main Authors:	Sina Sadighikia, Albert Grau‐Carbonell, Tom A.J. Welling, Ramakrishna Kotni, Fabian Hagemans, Arnout Imhof, Marijn A. van Huis, Alfons van Blaaderen
פורמט:	Article
שפה:	English
יצא לאור:	Wiley-VCH 2021-02-01
סדרה:	Nano Select
נושאים:	anisotropic particles etching liquid cell electron microscopy silica
גישה מקוונת:	https://doi.org/10.1002/nano.202000060

פריטים דומים

Splay-bend nematic phases of bent colloidal silica rods induced by polydispersity
מאת: Ramakrishna Kotni, et al.
יצא לאור: (2022-12-01)

Modeling, Simulation and Calibration of Silicon Wet Etching
מאת: Andrzej Kociubiński, et al.
יצא לאור: (2023-06-01)

Some Investigations on the Anisotropy of the Chemical Etching of (hk0) and (hhl) Silicon Plates in a NaOH 35% Solution. Part I: 2D Etching Shapes
מאת: C. A. Hodebourg, et al.
יצא לאור: (2001-01-01)

Formation of Black Silicon in a Process of Plasma Etching with Passivation in a SF<sub>6</sub>/O<sub>2</sub> Gas Mixture
מאת: Andrey Miakonkikh, et al.
יצא לאור: (2024-05-01)

Modifying of etching anisotropy of silicon substrates by surface active agents
מאת: Rola Krzysztof, et al.
יצא לאור: (2011-04-01)

Anisotropic etching of 2D layered materials
מאת: Yuge Zhang, et al.
יצא לאור: (2024-10-01)

Anisotropy etching of synthetic diamond single crystals by Pr6O11 powder
מאת: ZHU Zhendong, et al.
יצא לאור: (2022-11-01)

Surface morphology characterization of diamond etched by CeO2
מאת: CHEN Bing-wei, et al.
יצא לאור: (2022-08-01)

Probing Ion Diffusion and Ion Sieving through Hollow Porous Silica Shells by Imaging the Mobility of Colloids Inside the Shells
מאת: Kanako Watanabe, et al.
יצא לאור: (2024-10-01)

Plasma Power Effect on the Surfaces of a Quartz Crystal During Etching using Tetrafluoroethane Gas
מאת: Masruroh Masruroh, et al.
יצא לאור: (2017-12-01)

Smooth or not: Robust fused silica micro-components by femtosecond-laser-assisted etching
מאת: Remo N. Widmer, et al.
יצא לאור: (2021-06-01)

High speed silicon wet anisotropic etching for applications in bulk micromachining: a review
מאת: Prem Pal, et al.
יצא לאור: (2021-02-01)

Etching /
מאת: 375081 Edmondson, Leonard
יצא לאור: (1973)

Low-loss slot waveguides with silicon (111) surfaces realized using anisotropic wet etching
מאת: Kapil Debnath, et al.
יצא לאור: (2016-11-01)

Low loss silicon waveguides and grating couplers fabricated using anisotropic wet etching technique
מאת: Kapil eDebnath, et al.
יצא לאור: (2016-02-01)

Improvement of Etching Anisotropy in Fused Silica by Double-Pulse Fabrication
מאת: Valdemar Stankevič, et al.
יצא לאור: (2020-05-01)

The versatile technique of RF plasma etching : the etch profile /
מאת: 427692 Jacob, Adir

Etching characteristics of Si{110} in 20 wt% KOH with addition of hydroxylamine for the fabrication of bulk micromachined MEMS
מאת: A. V. Narasimha Rao, et al.
יצא לאור: (2017-05-01)

Determination of precise crystallographic directions on Si{111} wafers using self-aligning pre-etched pattern
מאת: Avvaru Venkata Narasimha Rao, et al.
יצא לאור: (2018-06-01)

Fabrication and Characterization of Silicon Micro-Funnels and Tapered Micro-Channels for Stochastic Sensing Applications
מאת: Frances S. Ligler, et al.
יצא לאור: (2008-06-01)

Wet anisotropic etching characteristics of Si{111} in NaOH-based solution for silicon bulk micromachining
מאת: S. Purohit, et al.
יצא לאור: (2022-12-01)

Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching
מאת: Toogood, M, et al.
יצא לאור: (1991)

Studies on etching and polymer deposition in halocarbon plasmas
מאת: Astell-Burt, P, et al.
יצא לאור: (1987)

STUDY ABOUT ALUMINIUM ETCHING
מאת: Botis Mihaela
יצא לאור: (2019-03-01)

Variation of Bulk Etch Rate and some other Etching Parameters with Etching Temperature for Cellulose Nitrate LR-115 Detector
מאת: Ali Hussain
יצא לאור: (2009-09-01)

The versatile technique of Rf plasma etching : mechanistic considerations for selective etching /
מאת: 427692 Jacob, Adir

Formation Mechanism of Rounded SiGe-Etch Front in Isotropic SiGe Plasma Etching for Gate-All-Around FETs
מאת: Yu Zhao, et al.
יצא לאור: (2021-01-01)

Effect of La2O3 etching on the properties of diamond single crystal
מאת: XIAO Changjiang, et al.
יצא לאור: (2023-02-01)

2D phase behaviors of colloidal ellipsoids and rods
מאת: Huaguang Wang, et al.
יצא לאור: (2022-10-01)

Surface temper etch inspection after grinding
מאת: 11585 American National Standards Institute, et al.

Scaled-Down c-Si and c-SiGe Wagon-Wheels for the Visualization of the Anisotropy and Selectivity of Wet-Chemical Etchants
מאת: Antoine Pacco, et al.
יצא לאור: (2019-08-01)

Different Effective Parameters on the Texturization of Silicon in KOH and IPA Solution and its Hydrophilic behavior
מאת: morteza maleki, et al.
יצא לאור: (2020-03-01)

Fabrication and Characterization of Inverted Silicon Pyramidal Arrays with Randomly Distributed Nanoholes
מאת: Yue Zhao, et al.
יצא לאור: (2021-08-01)

EVALUATION OF THE ADHESIVE INTERFACE BETWEEN ENAMEL AND A SINGLE-COMPONENT ADHESIVE APPLIED IN SELF-ETCHING AND SELECTIVE-ETCHING PROCEDURES
מאת: Gianina Iovan, et al.
יצא לאור: (2014-07-01)

Etching performance of silicon wafers with redesigned etching drum : An Approach to Etching Optimization /
מאת: Rozzeta Dolah, author, et al.
יצא לאור: (2012)

Plasma-free anisotropic selective-area etching of β-Ga2O3 using forming gas under atmospheric pressure
מאת: Takayoshi Oshima, et al.
יצא לאור: (2024-12-01)

Improvement of Laser Damage Resistance of Fused Silica Using Oxygen-Aided Reactive Ion Etching
מאת: Ting Shao, et al.
יצא לאור: (2024-08-01)

Simulation of etching process for IC fabrication /
מאת: 442678 Wong, Kit Seong
יצא לאור: (2003)

Artifacts in metallography: etching pits
מאת: A. G. Anisovich
יצא לאור: (2023-03-01)

Investigation of a Macromolecular Additive on the Decrease of the Aluminum Horizontal Etching Rate in the Wet Etching Process
מאת: Jingxiu Ding, et al.
יצא לאור: (2022-05-01)