بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه

در این تحقیق، از پودر کاربید سیلیسیم (SiC) با اندازه ذرات 30 تا 45 میکرومتر و مورفولوژی نامنظم، جهت پوشش‌دهی در حمام الکترولس نیکل استفاده شد. تاثیر پارامترهای خشن‌سازی سطح ذرات در محلول اسیدی و زمان فرآیند الکترولس بر یکنواختی و ضخامت پوشش Ni-P روی ذرات SiC مورد بررسی قرار گرفت. پودر کامپوزیتی SiC(...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: پژمان زمانی مقدم, ضیاء والفی, مسعود میرجانی
Format: Article
Language:fas
Published: Ferdowsi University of Mashhad 2024-01-01
Series:نشریه مهندسی متالورژی و مواد
Subjects:
Online Access:https://jmme.um.ac.ir/article_44443_1b9b9345731bd5e4a97fd4cd31dbc015.pdf
_version_ 1827316753136353280
author پژمان زمانی مقدم
ضیاء والفی
مسعود میرجانی
author_facet پژمان زمانی مقدم
ضیاء والفی
مسعود میرجانی
author_sort پژمان زمانی مقدم
collection DOAJ
description در این تحقیق، از پودر کاربید سیلیسیم (SiC) با اندازه ذرات 30 تا 45 میکرومتر و مورفولوژی نامنظم، جهت پوشش‌دهی در حمام الکترولس نیکل استفاده شد. تاثیر پارامترهای خشن‌سازی سطح ذرات در محلول اسیدی و زمان فرآیند الکترولس بر یکنواختی و ضخامت پوشش Ni-P روی ذرات SiC مورد بررسی قرار گرفت. پودر کامپوزیتی SiC(Ni)-70vol.%Co توسط فرآیندهای پاشش سوخت‌اکسیژن سرعت بالا (HVOF) و پاشش پلاسمای اتمسفری (APS) روی زیرلایه‌هایی از جنس فولاد ساده کربنی پوشش‌دهی شد. پودر کامپوزیتی از مخلوط مکانیکی پودر کبالت با پودر کاربید سیلیسیم روکش‌شده SiC(Ni) به دست آمد. ریزساختار سطح مقطع و مورفولوژی ذرات پودر و پوشش‌های متناظر توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) بررسی شد. نتایج نشان دادند که آماده‌سازی سطحی پودر SiC توسط خشن‌سازی ذرات با محلول HF/NaF و زمان الکترولس 5 دقیقه منجر به تشکیل روکش پیوسته و یکنواخت Ni-P با ضخامت 1 الی 3 میکرومتر روی ذرات SiC شد. روکش الکترولس نیکل طی پاشش حرارتی توسط HVOF به خوبی از ذرات SiC در برابر تجزیه و اکسیداسیون محافظت کرد و به عنوان یک حامل منجر به قرارگیری و توزیع SiC در پوشش کامپوزیتی SiC(Ni)-Co گردید. در فرآیند APS به دلیل دمای بسیار بالای جت پلاسما و تجزیه حرارتی، ذرات SiC در ریزساختار پوشش مشارکت بسیار کمی داشتند. میکرو سختی دو پوشش نامبرده به ترتیب 40 ± 570 و HV0.3 460± 30 اندازه‌گیری شد که این تفاوت ناشی از تاثیر توزیع چشمگیر SiC در پوشش HVOF بود.
first_indexed 2024-04-24T23:20:07Z
format Article
id doaj.art-0609513e64374e96aaf85df031266a6c
institution Directory Open Access Journal
issn 2008-7462
2423-5881
language fas
last_indexed 2024-04-24T23:20:07Z
publishDate 2024-01-01
publisher Ferdowsi University of Mashhad
record_format Article
series نشریه مهندسی متالورژی و مواد
spelling doaj.art-0609513e64374e96aaf85df031266a6c2024-03-16T09:12:09ZfasFerdowsi University of Mashhadنشریه مهندسی متالورژی و مواد2008-74622423-58812024-01-01344173010.22067/jmme.2023.81846.110744443بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیهپژمان زمانی مقدم0ضیاء والفی1مسعود میرجانی2گروه سطح و پوشش، دانشکده مواد و فناوری های ساخت، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، تهران، ایرانگروه سطح و پوشش، دانشکده مواد و فناوری های ساخت، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، تهران، ایرانگروه سطح و پوشش، دانشکده مواد و فناوری های ساخت، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، تهران، ایراندر این تحقیق، از پودر کاربید سیلیسیم (SiC) با اندازه ذرات 30 تا 45 میکرومتر و مورفولوژی نامنظم، جهت پوشش‌دهی در حمام الکترولس نیکل استفاده شد. تاثیر پارامترهای خشن‌سازی سطح ذرات در محلول اسیدی و زمان فرآیند الکترولس بر یکنواختی و ضخامت پوشش Ni-P روی ذرات SiC مورد بررسی قرار گرفت. پودر کامپوزیتی SiC(Ni)-70vol.%Co توسط فرآیندهای پاشش سوخت‌اکسیژن سرعت بالا (HVOF) و پاشش پلاسمای اتمسفری (APS) روی زیرلایه‌هایی از جنس فولاد ساده کربنی پوشش‌دهی شد. پودر کامپوزیتی از مخلوط مکانیکی پودر کبالت با پودر کاربید سیلیسیم روکش‌شده SiC(Ni) به دست آمد. ریزساختار سطح مقطع و مورفولوژی ذرات پودر و پوشش‌های متناظر توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) بررسی شد. نتایج نشان دادند که آماده‌سازی سطحی پودر SiC توسط خشن‌سازی ذرات با محلول HF/NaF و زمان الکترولس 5 دقیقه منجر به تشکیل روکش پیوسته و یکنواخت Ni-P با ضخامت 1 الی 3 میکرومتر روی ذرات SiC شد. روکش الکترولس نیکل طی پاشش حرارتی توسط HVOF به خوبی از ذرات SiC در برابر تجزیه و اکسیداسیون محافظت کرد و به عنوان یک حامل منجر به قرارگیری و توزیع SiC در پوشش کامپوزیتی SiC(Ni)-Co گردید. در فرآیند APS به دلیل دمای بسیار بالای جت پلاسما و تجزیه حرارتی، ذرات SiC در ریزساختار پوشش مشارکت بسیار کمی داشتند. میکرو سختی دو پوشش نامبرده به ترتیب 40 ± 570 و HV0.3 460± 30 اندازه‌گیری شد که این تفاوت ناشی از تاثیر توزیع چشمگیر SiC در پوشش HVOF بود.https://jmme.um.ac.ir/article_44443_1b9b9345731bd5e4a97fd4cd31dbc015.pdfکاربید سیلسیمni-pپاشش حرارتیhvofaps
spellingShingle پژمان زمانی مقدم
ضیاء والفی
مسعود میرجانی
بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
نشریه مهندسی متالورژی و مواد
کاربید سیلسیم
ni-p
پاشش حرارتی
hvof
aps
title بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
title_full بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
title_fullStr بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
title_full_unstemmed بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
title_short بررسی قابلیت پوشش‌دهی SiC توسط فرآیندهای APS و HVOF از طریق روکش کاری نیکل-فسفر بر پودر اولیه
title_sort بررسی قابلیت پوشش‌دهی sic توسط فرآیندهای aps و hvof از طریق روکش کاری نیکل فسفر بر پودر اولیه
topic کاربید سیلسیم
ni-p
پاشش حرارتی
hvof
aps
url https://jmme.um.ac.ir/article_44443_1b9b9345731bd5e4a97fd4cd31dbc015.pdf
work_keys_str_mv AT pzẖmạnzmạnymqdm brrsyqạblytpwsẖsẖdhysictwsṭfrậyndhạyapswhvofạzṭryqrwḵsẖḵạrynyḵlfsfrbrpwdrạwlyh
AT ḍyạʾwạlfy brrsyqạblytpwsẖsẖdhysictwsṭfrậyndhạyapswhvofạzṭryqrwḵsẖḵạrynyḵlfsfrbrpwdrạwlyh
AT msʿwdmyrjạny brrsyqạblytpwsẖsẖdhysictwsṭfrậyndhạyapswhvofạzṭryqrwḵsẖḵạrynyḵlfsfrbrpwdrạwlyh