Improved Endurance of Ferroelectric Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> Using Laminated-Structure Interlayer

In this article, the endurance characteristic of the TiN/HZO/TiN capacitor was improved by the laminated structure of a ferroelectric Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> thin film. Altering the HZO deposition ratio, the laminated-structure interlayer was...

Mô tả đầy đủ

Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Meiwen Chen, Shuxian Lv, Boping Wang, Pengfei Jiang, Yuanxiang Chen, Yaxin Ding, Yuan Wang, Yuting Chen, Yan Wang
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: MDPI AG 2023-05-01
Loạt:Nanomaterials
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://www.mdpi.com/2079-4991/13/10/1608