Технологічні причини пробою p-n-переходу кремнієвих p-i-n фотодіодів
Під час виготовлення координатних квадрантних p-i-n фотодіодів з високою напругою зворотного зміщення Uзм≥200 В було спостережено наявність систематичного браку виробів по рівню темнового струму одного (рідше кількох) фоточутливого елемента. Після вимірювання вольт-амперних характеристик побачено,...
Main Author: | Mykola Stepanovych Kukurudziak |
---|---|
Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Igor Sikorsky Kyiv Polytechnic Institute
2022-12-01
|
Series: | Mìkrosistemi, Elektronìka ta Akustika |
Subjects: | |
Online Access: | http://elc.kpi.ua/article/view/268299 |
Similar Items
-
Дослідження динамічного діапазону кремнієвих фотодіодів для застосування в оптичній пірометрії
by: Dmytro O. Verbitskyi, et al.
Published: (2023-12-01) -
Аналіз спектральної характеристики чутливості дифузійних <i>p-i-n</i> фотодіодів на основі високоомного <i>р</i>-Si
by: Mykola Stepanovych Kukurudziak
Published: (2023-03-01) -
Особливості фотолюмінесценції та спектрів пропускання тонких шарів пористого кремнію на діелектричних основах
by: Mykhailo Hryhorovych Dusheiko, et al.
Published: (2017-12-01) -
Вплив джерел синього світла в освітлювальних установках на циркадні ритми людини
by: Єгор Олександрович Желязков
Published: (2021-08-01) -
Сенсори на основі нанорозмірних кремнієвих 1D структур для промислового, екологічного та медичного моніторингу
by: Yaroslav Oleksiiovych Linevych, et al.
Published: (2022-08-01)