Photochemical Micro-/Nano-Swelling of Silicone Rubber Induced by Long Pulse-Repetition Interval of an ArF Excimer Laser
Long pulse-repetition intervals of 100 to 500 ms of a 193 nm ArF excimer laser successfully increased the height of the photochemical micro-/nano-swelling of silicone rubber, observed with a scanning electron microscope. The effect of the interval was seen despite the heating of the silicone rubber...
প্রধান লেখক: | Masayuki Okoshi |
---|---|
বিন্যাস: | প্রবন্ধ |
ভাষা: | English |
প্রকাশিত: |
MDPI AG
2021-05-01
|
মালা: | Electronic Materials |
বিষয়গুলি: | |
অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://www.mdpi.com/2673-3978/2/2/10 |
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Fabrication of Superhydrophobic Silicone Rubber with Periodic Micro/Nano-Suction Cup Structure by ArF Excimer Laser-Induced Photodissociation
অনুযায়ী: Masayuki Okoshi
প্রকাশিত: (2019-06-01) -
Effect of ArF excimer laser irradiation on allyldiglycol carbonate (CR-39) polymer
অনুযায়ী: Babak Zhaleh, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2015-08-01) -
ArF-excimer laser as a potential tool for manufacturing of biomedical polymeric devices
অনুযায়ী: B. Stepak, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2021-08-01) -
Study on Ablation Behaviors and Ablation Rates of a 193nm ArF Excimer Laser System for Selected Substrates in LA-ICP-MS Analysis
অনুযায়ী: WU Shi-tou, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2017-09-01) -
A Study on the Resolution and Depth of Focus of ArF Immersion Photolithography
অনুযায়ী: Jungchul Song, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2022-11-01)