光纤掺氟的实验研究
氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>掺入而使折射率降低△n<sup>-</sup>,是与CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量（或等效分压）的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与一个最佳的CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量相对应,CCl<sub>2</su...
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | zho |
| Published: |
《光通信研究》编辑部
1989-01-01
|
| Series: | Guangtongxin yanjiu |
| Online Access: | http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1989.01.008 |
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| author | 邹林森 雷道玉 |
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| description | 氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>掺入而使折射率降低△n<sup>-</sup>,是与CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量（或等效分压）的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与一个最佳的CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量相对应,CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量过高,形成SiF<sub>4</sub>会降低二氧化硅的沉积效率。故合理选择CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>的流量,将有助于提高单模光纤预制棒的沉积速率和生产速度,降低光纤成本。 |
| first_indexed | 2024-04-10T19:33:12Z |
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| institution | Directory Open Access Journal |
| issn | 1005-8788 |
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| publishDate | 1989-01-01 |
| publisher | 《光通信研究》编辑部 |
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| series | Guangtongxin yanjiu |
| spelling | doaj.art-85a93ab0a4fb473bbb0427adf9d229052023-01-30T09:40:05Zzho《光通信研究》编辑部Guangtongxin yanjiu1005-87881989-01-01596327501576光纤掺氟的实验研究邹林森雷道玉氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>掺入而使折射率降低△n<sup>-</sup>,是与CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量（或等效分压）的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与一个最佳的CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量相对应,CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量过高,形成SiF<sub>4</sub>会降低二氧化硅的沉积效率。故合理选择CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>的流量,将有助于提高单模光纤预制棒的沉积速率和生产速度,降低光纤成本。http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1989.01.008 |
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