光纤掺氟的实验研究
氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>掺入而使折射率降低△n<sup>-</sup>,是与CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量（或等效分压）的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与一个最佳的CCl<sub>2</sub>F<sub>2</sub>流量相对应,CCl<sub>2</su...
| Main Authors: | , |
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| Format: | Article |
| Language: | zho |
| Published: |
《光通信研究》编辑部
1989-01-01
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| Series: | Guangtongxin yanjiu |
| Online Access: | http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1989.01.008 |