Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展

本文介绍一种解释欧姆接触的比接触电阻ρ<sub>c</sub>的新模型。并从理论上分析了利用RF溅射清洗半导体表面可使ρ<sub>c</sub>降低的机理。

Bibliographic Details
Main Author: 孙序文
Format: Article
Language:zho
Published: 《光通信研究》编辑部 1987-01-01
Series:Guangtongxin yanjiu
Online Access:http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1987.02.005
_version_ 1811175191758241792
author 孙序文
author_facet 孙序文
author_sort 孙序文
collection DOAJ
description 本文介绍一种解释欧姆接触的比接触电阻ρ<sub>c</sub>的新模型。并从理论上分析了利用RF溅射清洗半导体表面可使ρ<sub>c</sub>降低的机理。
first_indexed 2024-04-10T19:31:39Z
format Article
id doaj.art-9159abd089164900a0ae3988f9a0c6e3
institution Directory Open Access Journal
issn 1005-8788
language zho
last_indexed 2024-04-10T19:31:39Z
publishDate 1987-01-01
publisher 《光通信研究》编辑部
record_format Article
series Guangtongxin yanjiu
spelling doaj.art-9159abd089164900a0ae3988f9a0c6e32023-01-30T09:41:28Zzho《光通信研究》编辑部Guangtongxin yanjiu1005-87881987-01-01454927501332Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展孙序文本文介绍一种解释欧姆接触的比接触电阻ρ<sub>c</sub>的新模型。并从理论上分析了利用RF溅射清洗半导体表面可使ρ<sub>c</sub>降低的机理。http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1987.02.005
spellingShingle 孙序文
Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
Guangtongxin yanjiu
title Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
title_full Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
title_fullStr Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
title_full_unstemmed Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
title_short Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
title_sort iii v族化合物半导体欧姆接触研究的进展
url http://www.gtxyj.com.cn/thesisDetails#10.13756/j.gtxyj.1987.02.005
work_keys_str_mv AT sūnxùwén iiivzúhuàhéwùbàndǎotǐōumǔjiēchùyánjiūdejìnzhǎn