Charge trapping analysis in sputtered BixSe1-x based accumulation-mode FETs. II. Gate capacitance characteristics

In this study, we extend the analyses done on sputtered BixSe1-x based accumulation mode FETs. Previously, we studied the basic electrical and leakage properties of these FET devices. We extend our analyses to obtain key parameters of the BixSe1-x (x = 0.44) film at various gate voltages. We start b...

Mô tả đầy đủ

Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Protyush Sahu, Jun-Yang Chen, Jian-Ping Wang
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: AIP Publishing LLC 2021-01-01
Loạt:AIP Advances
Truy cập trực tuyến:http://dx.doi.org/10.1063/9.0000027

Những quyển sách tương tự