فرایند فتوشیمیایی اُزن سطحی
در این بررسی، به پدیدة فتوشیمیایی تولید اُزن سطحی و اندازهگیری به روش آکتینومتری و پیرانومتری به منظور مشاهده کاهش شدّت تابش خورشیدی و واکنشهای ثانویه پرداخته شده است. این بررسی در مورد فرایندهای فتوشیمیایی مرتبط با NOX است که در شرایط تراکم ترافیک و افزایش دما همزمان با وارونگی سطحی مشاهده شده اس...
Main Author: | |
---|---|
Format: | Article |
Language: | fas |
Published: |
Nuclear Science and Technology Research Institute
2003-11-01
|
Series: | مجله علوم و فنون هستهای |
Subjects: | |
Online Access: | https://jonsat.nstri.ir/article_774_1369316243029d945b7a0273e2ee0e76.pdf |
Summary: | در این بررسی، به پدیدة فتوشیمیایی تولید اُزن سطحی و اندازهگیری به روش آکتینومتری و پیرانومتری به منظور مشاهده کاهش شدّت تابش خورشیدی و واکنشهای ثانویه پرداخته شده است. این بررسی در مورد فرایندهای فتوشیمیایی مرتبط با NOX است که در شرایط تراکم ترافیک و افزایش دما همزمان با وارونگی سطحی مشاهده شده است. افزایش قابل ملاحظة ازن سطحی (3O) از نظر شیمیایی طی دهة اخیر در تهران مرکزی دلیل بر افزایش آلودگی شدید هوا در روزهای معیّنی از سال است، که تغییراتی در ردیف ppb 45- 24 طیّ سالهای1371- 1369، همچنین ppb 65- 45 در سالهای 1379- 1378، نیز نشان داده شده است. افزایش غلظت اُزن سطحی (3O) به مفهوم افزایش آلودگی هوا بطور شدید و بروز خسارات بیولوژیکی بر روی تودههای گیاهی، حیوانی و انسانی است. |
---|---|
ISSN: | 1735-1871 2676-5861 |