فرایند فتوشیمیایی اُزن سطحی

در این بررسی، به پدیدة فتوشیمیایی تولید اُزن سطحی و اندازه‌گیری به روش آکتینومتری و پیرانومتری به منظور مشاهده کاهش شدّت تابش خورشیدی و واکنش‌های ثانویه پرداخته شده است. این بررسی در مورد فرایندهای فتوشیمیایی مرتبط با NOX است که در شرایط تراکم ترافیک و افزایش دما همزمان با وارونگی سطحی مشاهده شده اس...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: فاطمه ماه منیر شهر تاش
Format: Article
Language:fas
Published: Nuclear Science and Technology Research Institute 2003-11-01
Series:مجله علوم و فنون هسته‌ای
Subjects:
Online Access:https://jonsat.nstri.ir/article_774_1369316243029d945b7a0273e2ee0e76.pdf
Description
Summary:در این بررسی، به پدیدة فتوشیمیایی تولید اُزن سطحی و اندازه‌گیری به روش آکتینومتری و پیرانومتری به منظور مشاهده کاهش شدّت تابش خورشیدی و واکنش‌های ثانویه پرداخته شده است. این بررسی در مورد فرایندهای فتوشیمیایی مرتبط با NOX است که در شرایط تراکم ترافیک و افزایش دما همزمان با وارونگی سطحی مشاهده شده است. افزایش قابل ملاحظة ازن سطحی (3O) از نظر شیمیایی طی دهة اخیر در تهران مرکزی دلیل بر افزایش آلودگی شدید هوا در روزهای معیّنی از سال است، که تغییراتی در ردیف ppb 45- 24 طیّ سالهای1371- 1369، همچنین ppb  65- 45 در سالهای 1379- 1378، نیز نشان داده شده است. افزایش غلظت اُزن سطحی (3O) به مفهوم افزایش آلودگی هوا بطور شدید و بروز خسارات بیولوژیکی بر روی توده‎های گیاهی، حیوانی و انسانی است.
ISSN:1735-1871
2676-5861