Kumada, T., Ohtsuka, M., & Fukuyama, H. (2015). Influence of substrate temperature on the crystalline quality of AlN layers deposited by RF reactive magnetron sputtering. AIP Publishing LLC.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Kumada, Tomoyuki, Makoto Ohtsuka, و Hiroyuki Fukuyama. Influence of Substrate Temperature on the Crystalline Quality of AlN Layers Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering. AIP Publishing LLC, 2015.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Kumada, Tomoyuki, et al. Influence of Substrate Temperature on the Crystalline Quality of AlN Layers Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering. AIP Publishing LLC, 2015.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.