Kumada, T., Ohtsuka, M., & Fukuyama, H. (2015). Influence of substrate temperature on the crystalline quality of AlN layers deposited by RF reactive magnetron sputtering. AIP Publishing LLC.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Kumada, Tomoyuki, Makoto Ohtsuka, và Hiroyuki Fukuyama. Influence of Substrate Temperature on the Crystalline Quality of AlN Layers Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering. AIP Publishing LLC, 2015.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 9)Kumada, Tomoyuki, et al. Influence of Substrate Temperature on the Crystalline Quality of AlN Layers Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering. AIP Publishing LLC, 2015.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.