بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی

جذب فلوئور بر گرافن سبب تنظیم شکاف انرژی و در نتیجه گرافن آلائیده به فلوئور یکی از ترکیباتی است که موجب کاربردی شدن گرافن در صنایع الکترونیک می‌شود. در این مقاله نقش دما و غلظت اتم‌های فلوئور بر فرآیند جذب یک سویه صفحه گرافن و دو سویه آن بررسی شده است. نتایج این مطالعه نشان می‌دهند که تعداد اتم‌های...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: سارینا یوسف بیگی, فرح مرصوصی, یلدا پدرام
Format: Article
Language:fas
Published: Shahid Chamran University of Ahvaz 2021-12-01
Series:پژوهش سیستم‌های بس‌ذره‌ای
Subjects:
Online Access:https://jrmbs.scu.ac.ir/article_17274_67ae5cf2cabdb614a743a0e0f6216307.pdf
_version_ 1797389314048393216
author سارینا یوسف بیگی
فرح مرصوصی
یلدا پدرام
author_facet سارینا یوسف بیگی
فرح مرصوصی
یلدا پدرام
author_sort سارینا یوسف بیگی
collection DOAJ
description جذب فلوئور بر گرافن سبب تنظیم شکاف انرژی و در نتیجه گرافن آلائیده به فلوئور یکی از ترکیباتی است که موجب کاربردی شدن گرافن در صنایع الکترونیک می‌شود. در این مقاله نقش دما و غلظت اتم‌های فلوئور بر فرآیند جذب یک سویه صفحه گرافن و دو سویه آن بررسی شده است. نتایج این مطالعه نشان می‌دهند که تعداد اتم‌های فلوئور که جذب صفحه گرافن می‌شوند با افزایش غلظت گاز فلوئور تا مقدار معینی افزایش می‌یابند و سپس با افزایش بیشتر غلظت ثابت باقی می-مانند. همچنین با افزایش دما تا حدی که ساختار گرافن مختل نشود، سبب افزایش تعداد پیوندهای C-F می‌شود. همچنین مشاهده شد که چیدمان فلوئورهای جذب شده چنان است که از افزایش اختلال در توازن بین دو زیر شبکه گرافن جلوگیری شود.
first_indexed 2024-03-08T22:54:04Z
format Article
id doaj.art-f7c1bfb7d6034301acf97f955e89d452
institution Directory Open Access Journal
issn 2322-231X
2588-4980
language fas
last_indexed 2024-03-08T22:54:04Z
publishDate 2021-12-01
publisher Shahid Chamran University of Ahvaz
record_format Article
series پژوهش سیستم‌های بس‌ذره‌ای
spelling doaj.art-f7c1bfb7d6034301acf97f955e89d4522023-12-16T06:44:48ZfasShahid Chamran University of Ahvazپژوهش سیستم‌های بس‌ذره‌ای2322-231X2588-49802021-12-0111412413810.22055/jrmbs.2021.1727417274بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولیسارینا یوسف بیگی0فرح مرصوصی1یلدا پدرام2گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران، ایرانگروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران، ایرانگروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، تهران، ایرانجذب فلوئور بر گرافن سبب تنظیم شکاف انرژی و در نتیجه گرافن آلائیده به فلوئور یکی از ترکیباتی است که موجب کاربردی شدن گرافن در صنایع الکترونیک می‌شود. در این مقاله نقش دما و غلظت اتم‌های فلوئور بر فرآیند جذب یک سویه صفحه گرافن و دو سویه آن بررسی شده است. نتایج این مطالعه نشان می‌دهند که تعداد اتم‌های فلوئور که جذب صفحه گرافن می‌شوند با افزایش غلظت گاز فلوئور تا مقدار معینی افزایش می‌یابند و سپس با افزایش بیشتر غلظت ثابت باقی می-مانند. همچنین با افزایش دما تا حدی که ساختار گرافن مختل نشود، سبب افزایش تعداد پیوندهای C-F می‌شود. همچنین مشاهده شد که چیدمان فلوئورهای جذب شده چنان است که از افزایش اختلال در توازن بین دو زیر شبکه گرافن جلوگیری شود.https://jrmbs.scu.ac.ir/article_17274_67ae5cf2cabdb614a743a0e0f6216307.pdfدینامیک مولکولیگرافنفلوئوروگرافنجذب یک سویه
spellingShingle سارینا یوسف بیگی
فرح مرصوصی
یلدا پدرام
بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
پژوهش سیستم‌های بس‌ذره‌ای
دینامیک مولکولی
گرافن
فلوئوروگرافن
جذب یک سویه
title بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
title_full بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
title_fullStr بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
title_full_unstemmed بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
title_short بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
title_sort بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
topic دینامیک مولکولی
گرافن
فلوئوروگرافن
جذب یک سویه
url https://jrmbs.scu.ac.ir/article_17274_67ae5cf2cabdb614a743a0e0f6216307.pdf
work_keys_str_mv AT sạrynạywsfbygy brrsyjdẖbyḵswyhflwỷwrbrrwygrạfnbhrwsẖdynạmyḵmwlḵwly
AT frḥmrṣwṣy brrsyjdẖbyḵswyhflwỷwrbrrwygrạfnbhrwsẖdynạmyḵmwlḵwly
AT yldạpdrạm brrsyjdẖbyḵswyhflwỷwrbrrwygrạfnbhrwsẖdynạmyḵmwlḵwly