Thermodynamic calculations and model experiments on thin intergranular amorphous films in ceramics
Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Materials Science and Engineering, 1997.
Tác giả chính: | Ackler, Harold D. (Harold Dale), 1964- |
---|---|
Tác giả khác: | Yet-Ming Chiang. |
Định dạng: | Luận văn |
Ngôn ngữ: | eng |
Được phát hành: |
Massachusetts Institute of Technology
2005
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | http://hdl.handle.net/1721.1/10423 |
Những quyển sách tương tự
-
Continuum models for intergranular films in silicon nitride and comparison to atomistic simulations
Bằng: Bishop, Catherine M. (Catherine Mary), 1975-
Được phát hành: (2006) -
Controlled and explosive silicidation of metal/amorphous-silicon multilayer thin films
Bằng: Clevenger, Lawrence Alfred
Được phát hành: (2005) -
Tantalum based amorphous thin films as copper diffusion barrier
Bằng: Yan, Hua
Được phát hành: (2013) -
Amorphous metal oxide thin film transistors for printable electronics
Bằng: Chen, Yuxin
Được phát hành: (2015) -
Characterization of amorphous silicon carbide thin films for display applications
Bằng: Ahn, Jaeshin, et al.
Được phát hành: (2008)