Initiated chemical vapor deposition of functional polyacrylic thin films
Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Materials Science and Engineering, 2005.
Автор: | Mao, Yu, 1975- |
---|---|
Інші автори: | Karen K. Gleason and Adam C. Powell, IV. |
Формат: | Дисертація |
Мова: | eng |
Опубліковано: |
Massachusetts Institute of Technology
2006
|
Предмети: | |
Онлайн доступ: | http://hdl.handle.net/1721.1/33608 |
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
Chemical vapor deposition and functionalization of fluorocarbon-organosilicon copolymer thin films
за авторством: Murthy, Shashi Krishna, 1977-
Опубліковано: (2005) -
Chemical vapor deposition of functional and conformal polymer thin films for the formation and modification of nanostructures
за авторством: Moni, Priya
Опубліковано: (2018) -
Particle generation in a chemical vapor deposition/plasma-enhanced chemical vapor deposition interlayer dielectric tool
за авторством: Haberer, Elaine D. (Elaine Denise), 1975-
Опубліковано: (2005) -
Initiated chemical vapor deposition of polymeric thin films : mechanism and applications
за авторством: Chan, Kelvin, Ph. D. Massachusetts Institute of Technology
Опубліковано: (2006) -
Chemical vapor deposition of functionalized isobenzofuran polymers
за авторством: Olsson, Ylva Kristina
Опубліковано: (2007)