Modeling of chemical mechanical polishing for shallow trench isolation

Modeling of chemical mechanical polishing for shallow trench isolation

Thesis (S.B. and M.Eng.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering and Computer Science, 2000.

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
প্রধান লেখক:	Gan, Terence (Terence Chihkiong), 1975-
অন্যান্য লেখক:	Duane S. Boning.
বিন্যাস:	গবেষণাপত্র
ভাষা:	eng
প্রকাশিত:	Massachusetts Institute of Technology 2014
বিষয়গুলি:	Electrical Engineering and Computer Science.
অনলাইন ব্যবহার করুন:	http://hdl.handle.net/1721.1/86469

অনুরূপ উপাদানগুলি

Modeling of chemical mechanical polishing for shallow trench isolation
অনুযায়ী: Lee, Brian, 1975-
প্রকাশিত: (2006)

Effect of ionic surfactants on shallow trench isolation for chemical mechanical polishing using ceria-based slurries
অনুযায়ী: Lifei Zhang, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2023-12-01)

Characterization and modeling of uniformity in chemical mechanical polishing
অনুযায়ী: Oji, Charles (Charles Ojih), 1974-
প্রকাশিত: (2013)

Modeling of chemical mechanical polishing for dielectric planarization
অনুযায়ী: Ouma, Dennis Okumu
প্রকাশিত: (2005)

Characterization and modeling of polysilicon MEMS chemical-mechanical polishing
অনুযায়ী: Tang, Brian D. (Brian David), 1980-
প্রকাশিত: (2005)

Modeling of chemical mechanical polishing using fixed abrasive technology
অনুযায়ী: Dutt, Radhika, 1978-
প্রকাশিত: (2005)

Chip-scale modeling of pattern dependencies in copper chemical mechanical polishing processes
অনুযায়ী: Gbondo-Tugbawa, Tamba Edward
প্রকাশিত: (2005)

Device independent process control of dielectric chemical mechanical polishing
অনুযায়ী: Smith, Taber H. (Taber Hardesty)
প্রকাশিত: (2014)

Novel techniques for the run by run process control of chemical-mechanical polishing
অনুযায়ী: Smith, Taber H. (Taber Hardesty)
প্রকাশিত: (2008)

Air trenches for dense silica integrated optics
অনুযায়ী: Popović, Miloš, 1977-
প্রকাশিত: (2014)

Optimization of tungsten chemical mechanical polishing process
অনুযায়ী: Tan, Eng Hoe.
প্রকাশিত: (2008)

Signal recovery using cepstral smoothing in the shallow water environment
অনুযায়ী: Nam, Jean Ok
প্রকাশিত: (2006)

Characteristics of chemical mechanical polishing in advanced wafer processing
অনুযায়ী: Huang, Wen Ke.
প্রকাশিত: (2008)

Optical endpoint detection for the chemical mechanical polishing process
অনুযায়ী: Nam, Jamie (Jamie Hyun), 1975-
প্রকাশিত: (2005)

Slurry abrasive particle agglomeration experimentation and modeling for chemical mechanical planarization (CMP)
অনুযায়ী: Johnson, Joy Marie
প্রকাশিত: (2015)

Anisotropic structure at shallow depths across the Japan Trench
অনুযায়ী: Takashi Tonegawa, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2024-08-01)

Measuring the mechanical impedance of the isolated tectorial membrane
অনুযায়ী: Tsai, Betty Sheau-Jing, 1978-
প্রকাশিত: (2014)

Single mode excitation in the shallow water acoustic channel using feedback control
অনুযায়ী: Buck, John R. (John Richard)
প্রকাশিত: (2008)

Characterization of copper chemical mechanical polishing induced defects
অনুযায়ী: Teo, Tai Yong.
প্রকাশিত: (2008)

Mechanics, mechanisms, and modeling of the chemical mechanical polishing process
অনুযায়ী: Lai, Jiun-Yu
প্রকাশিত: (2005)

Chemical mechanical polishing of germanium selectively grown on silicon
অনুযায়ী: Tan, Bryan Yue Han
প্রকাশিত: (2023)

Electro-chemical mechanical polishing of copper and chemical mechanical polishing of glass
অনুযায়ী: Venkatesh, Vasisht C., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2004)

Characterization of deep trench etch recipe
অনুযায়ী: Tay, Chin Tiong.
প্রকাশিত: (2008)

Time dependent dielectric breakdown in copper low-k interconnects : mechanisms and reliability models
অনুযায়ী: Wong, Terence Kin Shun
প্রকাশিত: (2013)

A simple mechanism for sharing variables across the internet
অনুযায়ী: Harris, Jake, 1975-
প্রকাশিত: (2009)

Characterizing the binding mechanism of fixed sites on the isolated tectorial membrane of the mouse
অনুযায়ী: Rouf, Rosanne, 1974-
প্রকাশিত: (2009)

Adaptive pathfinding and utility AI implementation for a tower defense game
অনুযায়ী: Andre, Terence
প্রকাশিত: (2022)

State space models for isolating neural oscillations
অনুযায়ী: Beck, Amanda M
প্রকাশিত: (2019)

Characterization and modeling of atomic layer deposited high-density trench capacitors in silicon
অনুযায়ী: Matters-Kammerer, Marion K., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2013)

Improvement on within wafer and wafer-to-wafer uniformity by chemical mechanical polishing (CMP)
অনুযায়ী: Wu, Hong Ying.
প্রকাশিত: (2008)

Shallow Trench Isolation Patterning to Improve Photon Detection Probability of Single-Photon Avalanche Diodes Integrated in FD-SOI CMOS Technology
অনুযায়ী: Shaochen Gao, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2024-06-01)

Assessment of an infrared camera for use as a control sensor for the chemical mechanical planarization process
অনুযায়ী: Nishimoto, Angie Shizue, 1977-
প্রকাশিত: (2013)

Graphene chemical and biological sensors : modeling, systems, and applications
অনুযায়ী: Mackin, Charles Edward
প্রকাশিত: (2018)

Chemical and mechanical polishing for realization of advanced planarization schemes and patterned SOI structures
অনুযায়ী: Goh, Wang Ling., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2008)

Declarative symbolic pure-logic model checking
অনুযায়ী: Shlyakhter, Ilya, 1975-
প্রকাশিত: (2006)

Feature-based pronunciation modeling for automatic speech recognition
অনুযায়ী: Livescu, Karen, 1975-
প্রকাশিত: (2008)

Derivation of context axioms and semantics of data with the Domain Model Editor
অনুযায়ী: Leung, Christopher, 1975-
প্রকাশিত: (2009)

CMOS inverse doping profile extraction and substrate current modeling
অনুযায়ী: Pop, Eric, 1975-
প্রকাশিত: (2013)

Analysis and modeling of non-native speech for automatic speech recognition
অনুযায়ী: Livescu, Karen, 1975-
প্রকাশিত: (2013)

Self-paced regularization in label distribution learning
অনুযায়ী: Koh, Terence Kang Wei
প্রকাশিত: (2019)