Effects of radius, microwave power, and gas flow rate on the electronic excitation temperature in an atmospheric pressure microwave plasma torch
প্রধান লেখক: | Green, Karyn |
---|---|
প্রকাশিত: |
MIT Plasma Science and Fusion Center
2000
|
অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://hdl.handle.net/1721.1/93103 |
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Electronic Excitation Temperature Profiles in an Air Microwave Plasma Torch
অনুযায়ী: Green, K.M., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2015) -
Flow study in structure of the plasma torch for microwave plasma spray
অনুযায়ী: Muhammad Fahmi Izuwan, Samion, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2020) -
Effective technology for processing industrial volatile organic compounds by the atmospheric pressure microwave plasma torch
অনুযায়ী: Da-Shuai Li, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2023-06-01) -
Efficient, Modular Microwave Plasma Torch for Thermal Treatment
অনুযায়ী: Hadidi, K., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2015) -
Continuous batch synthesis with atmospheric-pressure microwave plasmas
অনুযায়ী: Ziyao Jie, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2024-08-01)