Pengaruh suhu anil dan dosis ion pada hambatan lapis lapisan semikonduktor silikon diimplantasi ion boron dan fosfor dosis tinggi
Main Authors: | , YUDYANTO, , Prof.Dr.Ir. Prayoto, M.Sc |
---|---|
Format: | Thesis |
Published: |
[Yogyakarta] : Universitas Gadjah Mada
1995
|
Subjects: |
Similar Items
FPT 122 - PENGANTAR BENTUK DOSIS JUN 1996
by: PPSFM, Pusat Pengajian Sains Farmasi
Published: (1996)
by: PPSFM, Pusat Pengajian Sains Farmasi
Published: (1996)
FPT 122 - PENGANTAR BENTUK DOSIS JUN 1989
by: PPSFM, Pusat Pengajian Sains Farmasi
Published: (1989)
by: PPSFM, Pusat Pengajian Sains Farmasi
Published: (1989)
Similar Items
-
Penentuan profil konsentrasi ion dopan pada lapisan semikonduktor silikon diimplantasi dengan ion fosfor tenaga 30 KeV dan 60 KeV
by: , DWIJANANTI, Pratiwi, et al.
Published: (1996) -
Pengaruh dosis ion pada tingkat kekerasan mikro, keausan dan korositas aluminium yang diimplantasi dengan ion argon
by: , TOIFUR, Moh, et al.
Published: (1995) -
Pengaruh dosis ion, tenaga, dan suhu sepuh-lindap terhadap resistans jenis dan magnetoresistans pada perak yang diimplantasi ion besi
by: , ISTIYONO, Edi, et al.
Published: (1998) -
Simulasi pergerakan ion hidrogen dalam silikon
by: Rashidah Nural Anuar
Published: (2008) -
PENGARUH VARIASI TEMPERATUR TERHADAP KETAHANAN LELAH BAJA KARBON YANG DIIMPLANTASI ION NITROGEN
by: , Mudjijana, Tjipto Suyitno dan I Gusti Ketut Puja
Published: (2000)