Beckman, J., Jackman, R., & Foord, J. (1994). CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH.
Citace podle Chicago (17th ed.)Beckman, J., R. Jackman, a J. Foord. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Citace podle MLA (9th ed.)Beckman, J., et al. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..