Beckman, J., Jackman, R., & Foord, J. (1994). CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH.
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)Beckman, J., R. Jackman, e J. Foord. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Citatione MLA (9a ed.)Beckman, J., et al. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Attenzione: Queste citazioni potrebbero non essere precise al 100%.