Beckman, J., Jackman, R., & Foord, J. (1994). CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Beckman, J., R. Jackman, và J. Foord. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 9)Beckman, J., et al. CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCES - A VIABLE APPROACH FOR CVD DIAMOND GROWTH. 1994.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.