Full-area passivating hole contact in silicon solar cells enabled by a TiOx/metal bilayer
Passivating contacts, featuring dual functions of defect passivation at the semiconductor surface and extracting one type of charge carrier, are recognized as the key enabler in achieving high-efficiency Si solar cells. In particular, a dopant-free and full-area passivating hole contact is critical...
Автори: | Matsui, T, McNab, S, Bonilla, RS, Sai, H |
---|---|
Формат: | Journal article |
Мова: | English |
Опубліковано: |
American Chemical Society
2022
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
Symmetric Dopant‐Free Si Solar Cells Enabled by TiOx Nanolayers: An In‐Depth Study on Bipolar Carrier Selectivity
за авторством: Takuya Matsui, та інші
Опубліковано: (2025-01-01) -
Origin of the tunable carrier selectivity of atomic-layer-deposited TiOx nanolayers in crystalline silicon solar cells
за авторством: Matsui, T, та інші
Опубліковано: (2020) -
SiNx and AlOx nanolayers in hole selective passivating contacts for high efficiency silicon solar cells
за авторством: McNab, S, та інші
Опубліковано: (2022) -
Data for Effective antireflection and surface passivation of silicon using a SiO2/a-TiOx film stack
за авторством: Bonilla, R, та інші
Опубліковано: (2017) -
Effective antireflection and surface passivation of silicon using a SiO2/a-TiOx film stack
за авторством: Bonilla Osorio, R, та інші
Опубліковано: (2017)