Zhang, J., Key, M., Norreys, P., & Tallents, G. (1993). Intensity ratio of resonance lines as a diagnostic of initial conditions suitable for XUV laser action in recombining plasmas.
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Zhang, J., M. Key, P. Norreys, i G. Tallents. Intensity Ratio of Resonance Lines as a Diagnostic of Initial Conditions Suitable for XUV Laser Action in Recombining Plasmas. 1993.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 9)Zhang, J., et al. Intensity Ratio of Resonance Lines as a Diagnostic of Initial Conditions Suitable for XUV Laser Action in Recombining Plasmas. 1993.
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..