İçeriği atla
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Dil
Tüm Alanlar
Materyal Adı
Yazar
Konu
Yer Numarası
ISBN/ISSN
Etiket
Ara
Gelişmiş
TiSix as a new embedded materi...
Alıntıla
Telefona gönder
E-posta Gönder
Yazdır
Kaydı İhraç Et
İhraç Et RefWorks
İhraç Et EndNoteWeb
İhraç Et EndNote
Kalıcı bağlantı
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Detaylı Bibliyografya
Asıl Yazarlar:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Materyal Türü:
Conference item
Baskı/Yayın Bilgisi:
1996
Erişim Bilgileri
Diğer Bilgiler
Benzer Materyaller
MARC Görünümü
Diğer Bilgiler
Özet:
Benzer Materyaller
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
Yazar:: M. Grégoire, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
Yazar:: Indykiewicz Kornelia, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
Yazar:: Koo, Chee Kiong.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
Yazar:: Choo, Lay Cheng.
Baskı/Yayın Bilgisi: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
Yazar:: Dimitris Ampeliotis, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2021-10-01)