Joan edukira
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Hizkuntza
Eremu guztiak
Izenburua
Egilea
Gaia
Sailkapena
ISBN/ISSN
Etiketa
Bilatu
Aurreratua
TiSix as a new embedded materi...
Erreferentzia bihurtu
SMS
Bidali
Imprimir
Erregistroa esportatu
Nora RefWorks
Nora EndNoteWeb
Nora EndNote
Permanent link
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Xehetasun bibliografikoak
Egile Nagusiak:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Formatua:
Conference item
Argitaratua:
1996
Aleari buruzko argibideak
Deskribapena
Antzeko izenburuak
MARC erregistroa
Antzeko izenburuak
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
nork: M. Grégoire, et al.
Argitaratua: (2019-03-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
nork: Koo, Chee Kiong.
Argitaratua: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
nork: Choo, Lay Cheng.
Argitaratua: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
nork: Dimitris Ampeliotis, et al.
Argitaratua: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
nork: Weitian Yu, et al.
Argitaratua: (2019-01-01)