Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
語言
全文檢索
題名
作者
主題
索引號
ISBN/ISSN
標簽
檢索
高級檢索
TiSix as a new embedded materi...
引用
發送短信
推薦此
打印
導出紀錄
導出到 RefWorks
導出到 EndNoteWeb
導出到 EndNote
Permanent link
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
書目詳細資料
Main Authors:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
格式:
Conference item
出版:
1996
持有資料
實物特徵
相似書籍
職員瀏覽
相似書籍
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
由: M. Grégoire, et al.
出版: (2019-03-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
由: Koo, Chee Kiong.
出版: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
由: Choo, Lay Cheng.
出版: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
由: Dimitris Ampeliotis, et al.
出版: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
由: Weitian Yu, et al.
出版: (2019-01-01)