Схожі ресурси
-
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
за авторством: M. Grégoire, та інші
Опубліковано: (2019-03-01) -
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
за авторством: Indykiewicz Kornelia, та інші
Опубліковано: (2013-02-01) -
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
за авторством: Koo, Chee Kiong.
Опубліковано: (2008) -
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
за авторством: Choo, Lay Cheng.
Опубліковано: (2008) -
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
за авторством: Dimitris Ampeliotis, та інші
Опубліковано: (2021-10-01)