Anar al contingut
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Tots els camps
Títol
Autor
Matèria
Signatura
ISBN/ISSN
Etiqueta
Trobar
Avançada
TiSix as a new embedded materi...
Citar
Enviar aquest missatge de text
Enviar per correu electrònic aquest
Imprimir
Exportar registre
Exportar a RefWorks
Exportar a EndNoteWeb
Exportar a EndNote
Enllaç permanent
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Dades bibliogràfiques
Autors principals:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Format:
Conference item
Publicat:
1996
Fons
Descripció
Ítems similars
Visualització del personal
Ítems similars
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
per: Koo, Chee Kiong.
Publicat: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
per: Choo, Lay Cheng.
Publicat: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
per: Dimitris Ampeliotis, et al.
Publicat: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
per: Weitian Yu, et al.
Publicat: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
per: Milena Martarelli, et al.
Publicat: (2022-02-01)