Siirry sisältöön
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Kieli
Kaikki kentät
Nimeke
Tekijä
Aihe
Hyllypaikka
ISBN/ISSN
Tagi
Hae
Tarkennettu
TiSix as a new embedded materi...
Sitaatti
Tekstiviesti
Lähetä sähköpostilla
Tulosta
Vie tietue
Vienti: RefWorks
Vienti: EndNoteWeb
Vienti: EndNote
Pysyvä linkki
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Bibliografiset tiedot
Päätekijät:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Aineistotyyppi:
Conference item
Julkaistu:
1996
Saatavuustiedot
Kuvaus
Samankaltaisia teoksia
Henkilökuntanäyttö
Samankaltaisia teoksia
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
Tekijä: M. Grégoire, et al.
Julkaistu: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
Tekijä: Indykiewicz Kornelia, et al.
Julkaistu: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
Tekijä: Koo, Chee Kiong.
Julkaistu: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
Tekijä: Choo, Lay Cheng.
Julkaistu: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
Tekijä: Dimitris Ampeliotis, et al.
Julkaistu: (2021-10-01)