Aller au contenu
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Langue
Tous les champs
Titre
Auteur
Sujet
Cote
ISBN/ISSN
Tag
Rechercher
Recherche avancée
TiSix as a new embedded materi...
Citer
Envoyer par SMS
Envoyer par courriel
Imprimer
Exporter les notices
Exporter vers RefWorks
Exporter vers EndNoteWeb
Exporter vers EndNote
Permalien
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Détails bibliographiques
Auteurs principaux:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Format:
Conference item
Publié:
1996
Exemplaires
Description
Documents similaires
Affichage MARC
Documents similaires
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
par: M. Grégoire, et autres
Publié: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
par: Indykiewicz Kornelia, et autres
Publié: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
par: Koo, Chee Kiong.
Publié: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
par: Choo, Lay Cheng.
Publié: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
par: Dimitris Ampeliotis, et autres
Publié: (2021-10-01)