Preskoči na sadržaj
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jezik
Sva polja
Naslov
Autor
Tema
Signatura
ISBN/ISSN
Oznaka
Pronađi
Napredno
TiSix as a new embedded materi...
Citiraj ovo
Pošalji tekstualnu poruku
Pošalji ovo e-mailom
Ispiši
Izvezi zapis
Izvezi u RefWorks
Izvezi u EndNoteWeb
Izvezi u EndNote
Stalna poveznica
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Bibliografski detalji
Glavni autori:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Format:
Conference item
Izdano:
1996
Primjerci
Opis
Slični predmeti
Prikaz za djelatnike knjižnice
Slični predmeti
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
od: M. Grégoire, i dr.
Izdano: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
od: Indykiewicz Kornelia, i dr.
Izdano: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
od: Koo, Chee Kiong.
Izdano: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
od: Choo, Lay Cheng.
Izdano: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
od: Dimitris Ampeliotis, i dr.
Izdano: (2021-10-01)