Ga door naar de inhoud
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Taal
Alle velden
Titel
Auteur
Onderwerp
Plaatsingsnummer
ISBN/ISSN
Tag
Zoek
Geavanceerd
TiSix as a new embedded materi...
Citeren
SMS dit
Versturen
Afdrukken
Exporteer Record
Exporteer naar RefWorks
Exporteer naar EndNoteWeb
Exporteer naar EndNote
Permalink
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Bibliografische gegevens
Hoofdauteurs:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Formaat:
Conference item
Gepubliceerd in:
1996
Exemplaren
Omschrijving
Gelijkaardige items
Personeel
Gelijkaardige items
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
door: M. Grégoire, et al.
Gepubliceerd in: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
door: Indykiewicz Kornelia, et al.
Gepubliceerd in: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
door: Koo, Chee Kiong.
Gepubliceerd in: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
door: Choo, Lay Cheng.
Gepubliceerd in: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
door: Dimitris Ampeliotis, et al.
Gepubliceerd in: (2021-10-01)