Przejdź do treści
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Język
Wszystkie pola
Tytuł
Autor
Hasło przedmiotowe
Sygnatura
ISBN / ISSN
Etykieta
Szukaj
Wyszukiwanie zaawansowane
TiSix as a new embedded materi...
Cytować
Wyślij wiadomość
Wyślij emailem
Drukuj
Eksportuj rekord
Eksportuj do RefWorks
Eksportuj do EndNoteWeb
Eksportuj do EndNote
Odnośnik bezpośredni
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Opis bibliograficzny
Główni autorzy:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Format:
Conference item
Wydane:
1996
Egzemplarz
Opis
Podobne zapisy
Wersja MARC
Podobne zapisy
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
od: M. Grégoire, i wsp.
Wydane: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
od: Indykiewicz Kornelia, i wsp.
Wydane: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
od: Koo, Chee Kiong.
Wydane: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
od: Choo, Lay Cheng.
Wydane: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
od: Dimitris Ampeliotis, i wsp.
Wydane: (2021-10-01)