Pular para o conteúdo
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Todos os campos
Título
Autor
Assunto
Número de Chamada
ISBN/ISSN
Tag
Buscar
Avançada
TiSix as a new embedded materi...
Citar
Enviar por SMS
Enviar por e-mail
Imprimir
Exportar registro
Exportar para RefWorks
Exportar para EndNoteWeb
Exportar para EndNote
Link permanente
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Detalhes bibliográficos
Principais autores:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Formato:
Conference item
Publicado em:
1996
Itens
Descrição
Registros relacionados
Registro fonte
Registros relacionados
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
por: M. Grégoire, et al.
Publicado em: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
por: Indykiewicz Kornelia, et al.
Publicado em: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
por: Koo, Chee Kiong.
Publicado em: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
por: Choo, Lay Cheng.
Publicado em: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
por: Dimitris Ampeliotis, et al.
Publicado em: (2021-10-01)