Перейти до змісту
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Мова
Всі поля
Назва
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Тег
Знайти
Розширений
TiSix as a new embedded materi...
Цитувати
Відправити по sms
Відправити е-поштою
Друк
Експортувати запис
Екпортувати в RefWorks
Екпортувати в EndNoteWeb
Екпортувати в EndNote
Постійне посилання
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Бібліографічні деталі
Автори:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Формат:
Conference item
Опубліковано:
1996
Примірники
Опис
Схожі ресурси
Службовий вигляд
Схожі ресурси
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
за авторством: M. Grégoire, та інші
Опубліковано: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
за авторством: Indykiewicz Kornelia, та інші
Опубліковано: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
за авторством: Koo, Chee Kiong.
Опубліковано: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
за авторством: Choo, Lay Cheng.
Опубліковано: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
за авторством: Dimitris Ampeliotis, та інші
Опубліковано: (2021-10-01)