Перейти до змісту
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Мова
Всі поля
Назва
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Тег
Знайти
Розширений
TiSix as a new embedded materi...
Цитувати
Відправити по sms
Відправити е-поштою
Друк
Експортувати запис
Екпортувати в RefWorks
Екпортувати в EndNoteWeb
Екпортувати в EndNote
Постійне посилання
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Бібліографічні деталі
Автори:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Формат:
Conference item
Опубліковано:
1996
Примірники
Опис
Схожі ресурси
Службовий вигляд
Схожі ресурси
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
за авторством: Koo, Chee Kiong.
Опубліковано: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
за авторством: Choo, Lay Cheng.
Опубліковано: (2008)
Determination of seismic attenuation using observed phase shift in sedimentary rocks
за авторством: Baranowski, Jean M
Опубліковано: (2010)
Precision measurement of attenuation and phase-shift at microwave and millimeter-wave frequencies
за авторством: Wu, Yong.
Опубліковано: (2012)
A new algorithm to estimate attenuation using frequency shift methods
за авторством: Maman Hermana,, та інші
Опубліковано: (2012)