Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
TiSix as a new embedded materi...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Định dạng:
Conference item
Được phát hành:
1996
Đang giữ
Miêu tả
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
Bằng: Koo, Chee Kiong.
Được phát hành: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
Bằng: Choo, Lay Cheng.
Được phát hành: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
Bằng: Dimitris Ampeliotis, et al.
Được phát hành: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
Bằng: Weitian Yu, et al.
Được phát hành: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
Bằng: Milena Martarelli, et al.
Được phát hành: (2022-02-01)