REACTION MODELS FOR THE EPITAXIAL-GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
Автори: | Foord, J, French, C, Levoguer, C, Davies, G |
---|---|
Формат: | Journal article |
Опубліковано: |
1993
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
REACTION-MECHANISMS GOVERNING THE SELECTED-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (1993) -
SELECTIVE-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY - STUDY OF REACTION-MECHANISMS
за авторством: Davies, G, та інші
Опубліковано: (1994) -
SURFACE-REACTION MECHANISMS GOVERNING THE SELECTIVE AREA GROWTH OF III-V COMPOUND SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
за авторством: Davies, G, та інші
Опубліковано: (1993) -
SELECTIVE AREA GROWTH OF III-V-COMPOUND SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
за авторством: Davies, G, та інші
Опубліковано: (1992) -
An investigation of ZnSe growth by chemical beam epitaxy using modulated beam scattering and related techniques
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (1996)