تخطي إلى المحتوى
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
اللغة
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
The effect of mismatch strain...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
أرسل هذا بالبريد الإلكتروني
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
رابط دائم
The effect of mismatch strain on Stranski-Krastanow transition in epitaxial GexSi1-xSi(0 0 1) gas-source growth
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:
Goldfarb, I
,
Briggs, G
التنسيق:
Conference item
منشور في:
1999
المقتنيات
الوصف
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
الوصف
الملخص:
مواد مشابهة
Reduction of dislocation mobility in GexSi1-x epilayers
حسب: Jurkschat, K, وآخرون
منشور في: (1996)
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
حسب: Glasko, J, وآخرون
منشور في: (1997)
A mechanism for "double half dislocation loops" nucleation in low misfit epitaxial GeXSi1-X on Si
حسب: Hirsch, P
منشور في: (1997)
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
حسب: Glasko, J, وآخرون
منشور في: (1996)
Ultra-steep side facets in multi-faceted SiGe/Si(001) Stranski-Krastanow islands
حسب: Brehm Moritz, وآخرون
منشور في: (2011-01-01)