The effect of mismatch strain on Stranski-Krastanow transition in epitaxial GexSi1-xSi(0 0 1) gas-source growth
Hlavní autoři: | Goldfarb, I, Briggs, G |
---|---|
Médium: | Conference item |
Vydáno: |
1999
|
Podobné jednotky
-
Reduction of dislocation mobility in GexSi1-x epilayers
Autor: Jurkschat, K, a další
Vydáno: (1996) -
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
Autor: Glasko, J, a další
Vydáno: (1997) -
A mechanism for "double half dislocation loops" nucleation in low misfit epitaxial GeXSi1-X on Si
Autor: Hirsch, P
Vydáno: (1997) -
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
Autor: Glasko, J, a další
Vydáno: (1996) -
Ultra-steep side facets in multi-faceted SiGe/Si(001) Stranski-Krastanow islands
Autor: Brehm Moritz, a další
Vydáno: (2011-01-01)