The effect of mismatch strain on Stranski-Krastanow transition in epitaxial GexSi1-xSi(0 0 1) gas-source growth
Հիմնական հեղինակներ: | Goldfarb, I, Briggs, G |
---|---|
Ձևաչափ: | Conference item |
Հրապարակվել է: |
1999
|
Նմանատիպ նյութեր
-
Reduction of dislocation mobility in GexSi1-x epilayers
: Jurkschat, K, և այլն
Հրապարակվել է: (1996) -
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
: Glasko, J, և այլն
Հրապարակվել է: (1997) -
A mechanism for "double half dislocation loops" nucleation in low misfit epitaxial GeXSi1-X on Si
: Hirsch, P
Հրապարակվել է: (1997) -
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
: Glasko, J, և այլն
Հրապարակվել է: (1996) -
Ultra-steep side facets in multi-faceted SiGe/Si(001) Stranski-Krastanow islands
: Brehm Moritz, և այլն
Հրապարակվել է: (2011-01-01)