Přeskočit na obsah
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jazyk
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Trvalý odkaz
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
Zobrazit další vydání (1)
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři:
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Médium:
Journal article
Vydáno:
1989
Jednotky
Popis
Další vydání (1)
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Zobrazuji výsledky
1 - 1
z
1
Zobrazit všechna vydaní (2)
Search Result 1
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
Autor
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Vydáno 1989
Journal article
Zobrazit všechna vydaní (2)
Podobné jednotky
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1986)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
Autor: Murrell, A, a další
Vydáno: (1989)
Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
Autor: Murrell, A, a další
Vydáno: (1989)
HALOGEN ADSORPTION AND HALOGEN-INDUCED SURFACE PHASE-TRANSITIONS ON CR(110)
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1987)